Notre équipe vous conseillera sur le procédé de fabrication de votre photomasque afin de garantir un produit adapté à vos exigences.
Les photomasques, produits dans notre entreprise, sont utilisés dans le monde entier dans des domaines de haute technologie tels que l’industrie des semi-conducteurs, la recherche médicale, la bioélectronique, l’aérospatiale.
Informations techniques
Substrat
Sodalime, quartz (fused silica).
Dépôt sur substrat
Chrome antireflet.
Dimensions
3x3 à 20x24’’.
Structure minimum
0.5µm