Unser Team berät sie über die möglichen Herstellungsverfahren ihrer Photomasken, um sie garantiert ihren Anforderungen anzupassen.
Die von unserem Unternehmen hergestellten Photomasken kommen weltweit im Hochtechnologiebereich zum Einsatz, wie z. B. in der Halbleiterindustrie, der medizinischen Forschung, der Bioelektronik, der Luft- und Raumfahrt.
Technische Daten
Substrat
Sodalime, quartz (fused silica).
Beschichtung
Low Reflexion Chrom.
Dimensions
3x3 bis 20x24’’.
Struktur min. :
0.5µm